企業(yè)海外參展常見的知識產(chǎn)權(quán)風險集中在專利權(quán)(發(fā)明、實用新型和外觀設計)風險、商標權(quán)風險和版權(quán)風險三大方面。

  專利權(quán)風險

  參展產(chǎn)品一般融合了先進的研發(fā)成果，因其外型、結(jié)構(gòu)、原理被抄襲而引發(fā)的專利侵權(quán)糾紛是展會中發(fā)生比例較高的。外觀設計專利、普通的實用新型專利，內(nèi)行人只要看一眼，立刻就能模仿。大部分的展會查抄都因?qū)＠?，并且已?jīng)由簡單的外觀設計、實用新型侵權(quán)糾紛發(fā)展成為復雜的、不易判斷的發(fā)明專利侵權(quán)糾紛。

  商標權(quán)風險

  商標具有地域性，在中國注冊的商標，只在中國受保護，在參展地沒有注冊，則不受保護。如果某企業(yè)的商標在中國注冊，但在參展地卻被其他人搶注成功，那么企業(yè)未經(jīng)授權(quán)在參展地使用該商標就屬于侵權(quán)行為。如果是被他人許可使用的商標，還需注意商標許可是有期限性的，超期仍使用有可能被訴商標侵權(quán)。此外，如果在商品、包裝以及相關(guān)廣告宣傳品上出現(xiàn)了在中國屬于通用名稱而在其他國家受法律保護的商標(如“MTV”)時，企業(yè)也可能在不知情的情況下被視為商標侵權(quán)。

  版權(quán)風險

  參展企業(yè)散發(fā)的參展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的展臺使用了他人設計方案，都可能導致侵犯他人版權(quán)。展會中，因使用背景音樂、他人攝影作品或美術(shù)作品等而被追究責任的糾紛也時有發(fā)生。企業(yè)還應注意展會現(xiàn)場使用的電腦中所承載的軟件是否是正版。

  產(chǎn)品侵權(quán)

  知識產(chǎn)權(quán)在參展產(chǎn)品中的體現(xiàn)是很集中的。例如，一件包含了節(jié)能技術(shù)的燈具展品，其結(jié)構(gòu)設計和節(jié)能技術(shù)方案可能受到發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠麢?quán)的保護;燈具的外形可能受到外觀設計專利的保護;如果該燈具的商標進行了注冊或雖未注冊但聲名遠揚的，則可能享有商標專有權(quán)的保護;該燈具的使用說明書可能涉及版權(quán)的保護。此外，視當?shù)氐闹R產(chǎn)權(quán)制度規(guī)則，還有可能涉及貨源標記、原產(chǎn)地名稱、商業(yè)秘密等知識產(chǎn)權(quán)保護。參展產(chǎn)品正是眾多知識產(chǎn)權(quán)的綜合載體。因此，參展企業(yè)需要避免因產(chǎn)品的專利、商標、版權(quán)侵權(quán)等問題遭遇競爭對手起訴或管理機構(gòu)的執(zhí)法處理。

  材料侵權(quán)

  參展材料通常包括：展臺、展板、宣傳手冊、產(chǎn)品說明、產(chǎn)品演示的音頻視頻等，這些材料往往涉及到版權(quán)保護。因此，推銷、演示、宣傳或展示設計可能因使用到受保護的美術(shù)、攝影、圖形或模型作品，背景音樂，計算機軟件等而引起糾紛。

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